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发明名称
制造半导体装置之方法
摘要
本发明揭示一种制造半导体装置之方法,包含于一半导体基板上形成之复数个不同半导体构件,其具有用以制造半导体装置之电晶体;一在所有上部上形成之内层隔离膜;以及一在该内层隔离膜中形成之电洞捕捉处,以避免移动离子如H或湿气穿透,藉以避免在电压差(Vgs)低于临限电压处之漏电流异常增加。
申请公布号
TW200423396
申请公布日期
2004.11.01
申请号
TW092135965
申请日期
2003.12.18
申请人
海力士半导体股份有限公司
发明人
李佳媛;严在哲;李济熙;崔宰熏;朴星昱
分类号
H01L29/16
主分类号
H01L29/16
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
韩国
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