发明名称 |
真空蒸镀用多面成形掩模装置 |
摘要 |
在具有多个用于限制蒸镀范围的窗口18的兼作第一金属掩模的基板12上设置有第二金属掩模13,该第二金属掩模13具有通过以微小间隔平行排列多个微细狭缝13a而构成的帘部13A。第二金属掩模13的一端通过掩模夹紧部件20固定到基板12上,另一端固定到滑块23上,压缩螺旋弹簧30将弹力施加给该滑块23。借此,将张力施加给第二金属掩模的帘部13A,使狭缝13a处于笔直状态且维持给定间距。在该第二金属掩模13上配置基片17并进行蒸镀,借此,在基片17上能以多面成形形成高精细的图案。 |
申请公布号 |
CN100355104C |
申请公布日期 |
2007.12.12 |
申请号 |
CN02803295.0 |
申请日期 |
2002.08.23 |
申请人 |
大日本印刷株式会社 |
发明人 |
土屋辉直;坂田卓也 |
分类号 |
H01L51/48(2006.01);H05B33/10(2006.01);C23C14/04(2006.01) |
主分类号 |
H01L51/48(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张天安;郑建晖 |
主权项 |
1.一种真空蒸镀用多面成形掩模装置,具有沿纵向及横向配置的多个有效掩模部,其特征是,包括:具有多个窗口的第一掩模;以及配置在第一掩模上并具有包含沿纵向延伸的多个微细狭缝的帘部的第二掩模;第二掩模的帘部配置在第二掩模中的至少覆盖全部窗口的横向全部区域上,通过帘部与窗口形成有效掩模部。 |
地址 |
日本东京都 |