Microstructuration of polymer-metal laminates.

摘要

Bei dem verfahren zur Mikrostrukturierung wird eine als Substrat verwendete Polymer-Metall- oder Polymer-Halbleiter-verbundschicht als Substrat verwendet.Dieses Substrat wird durch eine der vorgegebenen Mikrostrukturierung entsprechende Maske hindurch belichtet, anschließend die belichteten Bereiche der Photoresist-Schicht abgeätzt und nach einer weiteren physikalischen und/oder chemischen Behandlung der offenliegenden Substratbereiche die verbliebenen Photoresist-Bereiche mit Hilfe eines Lösungsmittels entfernt. Bewährt haben sich dabei Lösungsmittel aus der Gruppe der längerkettigen aliphatischen Ether/Ketone, Ester mit C > 2, Alkohole mit C > 4 oder der cyclo-aliphatischen Ether.