发明名称 |
对其他腔室零件造成最少侵蚀之电浆围束环的快速清洗设备、系统及方法 |
摘要 |
本发明系揭露一种用以从电浆围束环快速移除聚合薄膜而对其他电浆蚀刻腔室元件造成最少侵蚀之设备。该设备包含:一中心组合;一电极板;一围束环堆;一第一电浆源;以及一第二电浆源。该电极板固定于该中心组合的一表面,其中该中心组合具有一沿着该中心组合的外圆周而形成之通道。第一电浆源设置于通道内并且沿着该中心组合的外圆周,其中第一电浆源系用以引导一电浆至该围束环堆之内圆周表面。位于远离第一电浆源的第二电浆源用以在该蚀刻腔室里的一基板上执行处理操作。 |
申请公布号 |
TW200814187 |
申请公布日期 |
2008.03.16 |
申请号 |
TW096120296 |
申请日期 |
2007.06.06 |
申请人 |
兰姆研究公司 |
发明人 |
艾瑞克 哈得森;安德里斯 费雪 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01);H01L21/30(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
许峻荣 |
主权项 |
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地址 |
美国 |