离子束蚀刻之二维均匀度修正

摘要

一种离子束辅助蚀刻之二维均匀度修正方法。在一实施例中，提供了用以离子束来蚀刻基板的方法。在此实施例中，检索包含植入剂量率与蚀刻率之间相互关系的离子植入剂量布图。此外，获取包含基板的离子束蚀刻时所使用之离子束参数值的配方。离子束导引至基板的表面且根据离子植入剂量布图以及配方中的离子束参数值而利用离子束来蚀刻表面。根据离子植入剂量布图以及离子束参数值来控制表面的蚀刻。