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经营范围
发明名称
基板处理装置
摘要
本发明的基板处理装置系具备有:基板旋转单元、刷子、及周缘清洗液吐出单元;其中,该基板旋转单元系用来使基板进行旋转;该刷子系对利用上述基板旋转单元进行旋转的基板,至少抵接于基板表面的周缘区域;该周缘清洗液吐出单元系对基板表面周缘区域中的上述刷子所接触到的区域,朝在基板旋转方向下游侧而隔有间隔的既定清洗液吐出位置,从较该既定清洗液吐出位置更靠基板旋转半径方向的内侧,吐出清洗液。
申请公布号
TW200926274
申请公布日期
2009.06.16
申请号
TW097128068
申请日期
2008.07.24
申请人
大日本网屏制造股份有限公司
发明人
野野村正浩;石井淳一
分类号
H01L21/30(2006.01);H01L21/67(2006.01);B08B7/04(2006.01)
主分类号
H01L21/30(2006.01)
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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