画素结构的制作方法

摘要

一种画素结构的制作方法包括下列步骤。首先，提供一基板。接着，形成第一导电层于基板上，并提供一暴露出部分第一导电层的第一遮罩于第一导电层上方。之后，使用雷射经由第一遮罩照射第一导电层，以移除部分第一导电层，而形成闸极。接着，形成闸绝缘层于基板上以覆盖闸极。继之，形成通道层于闸极上方的闸绝缘层上。之后，形成源极与汲极于闸极两侧的通道层上。接着，形成图案化保护层覆盖通道层并暴露出汲极。之后，形成电极材料层以覆盖图案化保护层与暴露之汲极，并藉由图案化保护层使电极材料图案化，以形成画素电极。