发明名称 |
Integrated semiconductor device comprising a field-effect transistor with an isolated gate biased at a high level. |
摘要 |
<p>Dispositif semiconducteur intégré, incluant un transistor à effet de champ (T1), d'un type à grille isolée, cette grille (20) étant polarisée en continue à un niveau élevé, caractérisé en ce que le transistor a une caractéristique de courant drain-source en fonction de la tension grille-source montrant une zone de transconductance négative au-delà d'un maximum de part et d'autre duquel les pentes de la caractéristique sont sensiblement symétriques, en sorte que deux valeurs de la tension grille-source symétriques par rapport à ce maximum correspondent sensiblement à une même valeur du courant drain-source, et en ce que ce transistor est muni de moyens de polarisation (VE) pour obtenir que son régime de fonctionnement se situe dans la région de cette caractéristique autour de ce maximum. Application : circuits numériques et analogiques</p> |
申请公布号 |
EP0380168(A1) |
申请公布日期 |
1990.08.01 |
申请号 |
EP19900200131 |
申请日期 |
1990.01.18 |
申请人 |
LABORATOIRES D'ELECTRONIQUE PHILIPS;N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN |
发明人 |
DELHAYE, ETIENNE, SOCIETE CIVILE SPID;WOLNY, MICHEL, SOCIETE CIVILE SPID;AGUILA, THIERRY, SOCIETE CIVILE SPID;PYNDIAH, RAMESH, SOCIETE CIVILE SPID |
分类号 |
H01L29/78;H01L27/095;H01L29/80;H03B19/14;H03K19/21 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|