| 发明名称 |
VACUUM CVD DEVICE FOR METAL SILICIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02185974(A) |
申请公布日期 |
1990.07.20 |
| 申请号 |
JP19890006633 |
申请日期 |
1989.01.13 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD;TERU BARIAN KK |
发明人 |
MATSUSE KIMIHIRO |
| 分类号 |
C23C16/42;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/205;H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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