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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号 EP0201721(B1) 申请公布日期 1990.07.11
申请号 EP19860104800 申请日期 1986.04.08
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 SHUKURI, SHOJI;TAMURA, MASAO;WADA, YASUO;FUJISAKI, YOSHIHISA
分类号 H01L21/265;H01J37/317;H01L21/8252 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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