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Es wird reaktionsgebundenes Siliziumnitrid Si3N4 hergestellt, indem von reinem Siliziumpulver oder einem Pulvergemisch aus reinem Silizium und seines Nitrides ausgegangen wird. Dieses wird einem kaltisostatischen Pressen oder einem Schlickerguss- oder Druckgussverfahren unterworfen, bevor es in eine heissisostatische Presse gebracht wird. Unter einem Stickstoffdruck von anfangs 0,5 - 2,0 MPa und einer Anfangstemperatur von 1000°C wird die Reaktion eingeleitet. Während der Reaktion wird der Druck auf 4,9 MPa und die Temperatur höchstens auf 1420°C erhöht. Diese Druck- und Temperaturerhöhung erfolgt zumindest teilweise in Stufen. Es wird dabei ein Produkt mit einem Nitridierungsgrad von grösser als 92 % erhalten. Das Verfahren erlaubt es, bei einer Zykluszeit von weniger als 24 h Formkörper herzustellen, die eine Wandstärke von mehr als 10 mm aufweisen, wobei das Material gleichmässig nitridiert ist.
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