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发明名称 Method for patterning cationic curable photoresist
摘要
申请公布号 US4940651(A) 申请公布日期 1990.07.10
申请号 US19880292173 申请日期 1988.12.30
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 BROWN, LAWRENCE M.;GELORME, JEFFREY D.;KUCZYNSKI, JOSEPH P.;LAWRENCE, WILLIAM H.
分类号 C08F2/50;C08G59/00;C08G59/18;G03F7/038;G03F7/20;H05K3/00;H05K3/28 主分类号 C08F2/50
代理机构 代理人
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