发明名称 |
METHOD FOR TREATING BASE OF SPATTERING APPARATUS AND APPARATUS THEREOF |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH02173263(A) |
申请公布日期 |
1990.07.04 |
申请号 |
JP19890284684 |
申请日期 |
1989.10.31 |
申请人 |
EATON CORP |
发明人 |
JIYURIAN GASUKIRU BUREIKU;RICHIYAADO SUTEFUAN MUUKA;PIITAA ROSUMASURAA YANGAA |
分类号 |
C23C14/56;H01L21/00;H01L21/677;H01L21/687 |
主分类号 |
C23C14/56 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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