发明名称 |
MEASUREMENT OF IMPURITY DISTRIBUTION INSIDE SEMICONDUCTOR |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH02170446(A) |
申请公布日期 |
1990.07.02 |
申请号 |
JP19880323308 |
申请日期 |
1988.12.23 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
TOYABE TATSU;MATSUO HITOSHI;YAMAMOTO SHUICHI;MASUDA HIROO |
分类号 |
G01N27/00;G01N27/22;H01L21/00;H01L21/66 |
主分类号 |
G01N27/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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