| 主权项 |
1.一种利用化学辐射之曝照在基体表面之光 聚合物层上制造聚合图型之方法,包括下 列步骤: 在一基体之受光照射面上,安置一层 液态光聚合物,该聚合物具有能在光化辐 射能存在下发生聚合之特性,一旦与该表 面接触之介质(例如空气或氮气)改变, 促使该层发生聚合所须辐射能之量亦不同 ; 于第一聚合步骤中,为降低氧气之聚 合物抑制作用,使该层之表面存在一种气 体介质(例氮气),将一量被控制妥当之 辐射能透过一不接触且具有影像图形之影 板,造成所述层之部份厚度发生聚合,因 此按影像图形可将聚合物界定成两种图像 区域,其分别为表面有已聚合物薄层者及 纵向全部均为未聚合之聚合物者; 将上述第一气体介质以作为第二气体 介质之空气取代,并使其与所述层之表面 接触,以防止于辐射存在下,表面未聚合 之部份发生纵向聚合之现象;及 再将预定之弱辐射能透过上述具表面 薄层之部份,(该薄层在此辐射步骤中具 代替影板之作用)使薄层下方之光聚合物 纵向彻底聚合,并防止未聚合区之聚合物 发生纵向彻底聚合之现象。2.如申请专利范围第1 项之方法,又包括: 在将上述液态光聚合物层置放以前, 在基体表面上置放厚度约在0.001寸( 0.0025厘米)之结线导体; 将厚度约0.003寸(0.0078厘米)之 上述光聚合层置放于其上; 将不反应之无氧气体覆盖上述光聚合 层,经光曝照后,使该液态光聚合物之外 层表面发生约0.001寸(0.0025厘米)厚 度之聚合。3.如申请专利范围第1项之方法,又包括 : 为防止来自非准直光源之散射于光聚 合物表面上因能量足够而将影板不透明区 域所界定之光聚合物皮层亦造成聚合之现 象,非准直光源之曝照时间须被限制在瞬 间闪光,以防止随非准直聚合能而来之严 重解析性损失。 |
