| 发明名称 |
PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0367289(A3) |
申请公布日期 |
1990.06.13 |
| 申请号 |
EP19890120404 |
申请日期 |
1989.11.03 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
MASE, YASUKAZU C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION;ABE, MASAHIRO C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIVISION |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/50;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/50 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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