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经营范围
发明名称
WAFER HEAT TREATMENT DEVICE
摘要
申请公布号
JPH02146727(A)
申请公布日期
1990.06.05
申请号
JP19880301478
申请日期
1988.11.28
申请人
SHINETSU ENG KK;NAOETSU DENSHI KOGYO KK
发明人
SAKAI IKUO;KIJIMA KATSUYUKI;SATO SHIGEKI;OKUNO TAKANORI
分类号
F27D3/12;H01L21/22
主分类号
F27D3/12
代理机构
代理人
主权项
地址
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