| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02143423(A) |
申请公布日期 |
1990.06.01 |
| 申请号 |
JP19880295952 |
申请日期 |
1988.11.25 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD |
发明人 |
CHIBA MASAYUKI;IRIUCHIJIMA TADASHI |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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