| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURE THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02138725(A) |
申请公布日期 |
1990.05.28 |
| 申请号 |
JP19890072356 |
申请日期 |
1989.03.23 |
| 申请人 |
RICOH CO LTD |
发明人 |
ASAKAWA TOSHIBUMI;NAKAYAMA HARUO;KOSAKA DAISUKE |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/263;H01L27/12 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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