发明名称 CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY EQUIPMENT
摘要
申请公布号 JPH02130815(A) 申请公布日期 1990.05.18
申请号 JP19880284771 申请日期 1988.11.10
申请人 TOSHIBA CORP 发明人 ABE TAKAYUKI
分类号 H01L21/30;H01L21/027 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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