发明名称 Process for controlling the distribution of the evaporation rate of an electron beam.
摘要 <p>Es wird vorgeschlagen, einen Betriebsparameter, wie Verweilzeit, Fokussierung, Leistung, einer Elektronenstrahlquelle für das Abdampfen einer Abdampffläche (14) mit Feldern (A, B, C) konstanter Stellgrössen anzusteuern, wobei diese Felder Teilbereichen einer abzudampfenden Fläche (14) entsprechen. Dadurch wird der zu installierende Speicheraufwand, um den Elektronenstrahl den sich entlang der Fläche (14) ändernden Verhältnissen nachzustellen, drastisch reduziert.</p>
申请公布号 EP0368037(A1) 申请公布日期 1990.05.16
申请号 EP19890119229 申请日期 1989.10.17
申请人 BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 WEGMANN, URS, DIPL. ING. ETH;SIGNER, HANS;KOLLER, ALBERT, EL. ING. ETH
分类号 C23C14/30;C23C14/54;H01J37/302;H01J37/305;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 C23C14/30
代理机构 代理人
主权项
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