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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von inerten, katalytisch wirksamen oder gassensitiven Keramikschichten für Gassensoren, insbesondere für potentiometrische oder resistive Gassensoren, vorzugsweise mit Volumeneffekt, aus einer Paste, bestehend aus einem pulverförmigen Keramik-Grundmaterial und einem organischen Pastengrundstoff. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein für die Serienproduktion geeignetes Verfahren zur Herstellung von inerten, katalytisch wirksamen oder gassensitiven Keramikschichten für Gassensoren von weniger als 100 µm zu Schaffen. Die Halbleiter sollen in speziellen, vorgegebenen geometrischen Formen mit scharf abgegrenzten Randzonen herstellbar sein. Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß mit der Paste ein Substrat mit Hilfe der Siebdrucktechnik beschichtet wird, eine Schichtdicke von 1 bis 100 µm eingehalten wird und das beschichtete Substrat einer thermischen Behandlung unterzogen wird. Abstract The invention concerns a process for manufacturing inert, catalytic or gas-sensitive ceramic layers for gas sensors, in particular potentiometer or resistive gas sensors, preferably with volume effect, from a paste composed of a powdered ceramic basic material and an organic paste basic material. The process is suitable for the mass production of inert, catalytic or gas-sensitive ceramic layers less than 100 µm thick for gas sensors. The semiconductors can be manufactured in special, predetermined shapes with sharply demarcated edge regions. For this purpose, a layer of paste from 1 to 100 µm thick is applied by serigraphy to a substrate and the coated substrate is then heat treated. |
