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发明名称 RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND FORMATION OF PATTERN BY USING SAME
摘要
申请公布号 JPH02120366(A) 申请公布日期 1990.05.08
申请号 JP19880272977 申请日期 1988.10.31
申请人 HITACHI LTD;HITACHI CHEM CO LTD 发明人 HAYASHI NOBUAKI;SHIRAISHI HIROSHI;AOKI EMIKO;CHOKAI MINORU;UENO TAKUMI;TADANO KEIKO;HASHIMOTO MICHIAKI;IWAYAGI TAKAO
分类号 C08K3/16;C08K5/41;C08K5/42;C08L101/00;H01B5/14 主分类号 C08K3/16
代理机构 代理人
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