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发明名称 CLEANING PROCESS AND DEVICE OF SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 JPH02117133(A) 申请公布日期 1990.05.01
申请号 JP19880271335 申请日期 1988.10.26
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP 发明人 TOYODA MASATO;MUKOGAWA YASUKAZU
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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