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发明名称 EXCITON ELECTRON BEAM SOURCE
摘要
申请公布号 JPH02115798(A) 申请公布日期 1990.04.27
申请号 JP19880268514 申请日期 1988.10.25
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 IWAMATSU SEIICHI
分类号 G21K1/00;G21K5/04;H01J37/06;H01L21/027;H05H15/00 主分类号 G21K1/00
代理机构 代理人
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