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发明名称 PHOTOELECTRON MASK
摘要
申请公布号 JPH02114626(A) 申请公布日期 1990.04.26
申请号 JP19880268513 申请日期 1988.10.25
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 IWAMATSU SEIICHI
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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