| 发明名称 |
Heat-stable positive photoresist. |
| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft Positiv-Fotoresists auf Basis von alkalilöslichem Phenolharz und fotoempfindlichen Chinondiazidverbindungen, bei denen durch bestimmte Additive damit hergestellten Reliefstrukturen eine erhöhte Stabilität gegenüber Veränderungen durch thermische Einwirkungen aufweisen.</p> |
| 申请公布号 |
EP0364949(A2) |
申请公布日期 |
1990.04.25 |
| 申请号 |
EP19890119254 |
申请日期 |
1989.10.17 |
| 申请人 |
CIBA-GEIGY AG |
发明人 |
BARTMANN, EKKEHARD, DR.;SCHULZ, REINHARD, DR.;MUNZEL, HORST, DR. |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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