| 发明名称 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR, PAR PLASMA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2555362(B1) |
申请公布日期 |
1990.04.20 |
| 申请号 |
FR19830018300 |
申请日期 |
1983.11.17 |
| 申请人 |
ETAT FRANCAIS CNET |
发明人 |
ANDRE BOUCHOULE, PIERRE RANSON ET DANIEL HENRY |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/306;H05H1/02 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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