摘要 |
Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel I R²-CH2- ?-CH2-R¹-OH (I) worin D einen 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonyl- oder -5-sulfonylrest, R¹ eine Alkylengruppe, R² ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Gruppe R¹-OH bedeutet, und der allgemeinen Formel II <IMAGE> beschrieben, worin X eine Alkylengruppe, eine Arylengruppe oder eine Gruppe der Formel NH-Y-NH, worin Y eine Alkylengruppe oder eine Arylengruppe ist, R³ eine Alkylengruppe, die ggf. durch Ethersauerstoffatome unterbrochen ist, n eine Zahl von 1 bis 40 und m eine Zahl von 0 bis 50 bedeutet, wobei das Verhältnis m:(m+n) 0:100 bis 95:100 beträgt und R¹ und D die oben angegebene Bedeutung haben. Die Verbindungen werden in positiv arbeitenden lichtempfindlichen Materialien für Druckplatten und Photoresists eingesetzt, die bei den polymeren Vertretern der Formel II keinen Zusatz an polymeren Bindemitteln erfordern.
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申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
ZAHN, WOLFGANG, DR. DIPL.-CHEM.;BUHR, GERHARD, DR. DIPL.-CHEM.;STEPPAN, HARTMUT, DR. DIPL.-CHEM. |