首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD OF PHOTORESIST LAYERS' SURFACE TREATMENT,APPLICATED ON SEMICONDUCTOR PLATE
摘要
申请公布号 CS269152(B1) 申请公布日期 1990.04.11
申请号 CS19880002200 申请日期 1988.03.31
申请人 ROTHBAUER MILOS ING.,CS;NOVOTNY ZDENEK ING.,CS 发明人 ROTHBAUER MILOS ING.,CS;NOVOTNY ZDENEK ING.,CS
分类号 H01L21/26;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/26 主分类号 H01L21/26
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com