ETCHING OF SILICON LAYER,申请号JP19880251235-传众专利搜索

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发明名称	ETCHING OF SILICON LAYER
摘要
申请公布号	JPH0298925(A)	申请公布日期	1990.04.11
申请号	JP19880251235	申请日期	1988.10.05
申请人	FUJITSU LTD	发明人	IIZUKA KATSUHIKO
分类号	H01L21/302;H01L21/3065	主分类号	H01L21/302
代理机构		代理人
主权项
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