发明名称 |
Radiation-sensitive compositions and their use. |
摘要 |
Die Erfindung betrifft zur Herstellung von Polyimiden, Polyisoindolochinazolindionen, Polyoxazindionen, Polychinazolindionen oder Polychinazolonen geeignete strahlungsreaktive Gemische aus bestimmten Vorstufen und aromatische Reste enthaltenden Carbonylverbindungen, die im durch UV-Strahlung angeregten Zustand zur Wasserstoffabstraktion befähigt sind, die durch Bestrahlung mit aktinischem Licht eine Löslichkeitsdifferenzierung erfahren. Sie eignen sich zur Herstellung isolierender Schichten und gedruckter Schaltungen.
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申请公布号 |
EP0362649(A2) |
申请公布日期 |
1990.04.11 |
申请号 |
EP19890117621 |
申请日期 |
1989.09.23 |
申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
BLUM, RAINER;REHMER, GERD, DR.;SCHUPP, HANS, DR. |
分类号 |
C08G73/06;C08G73/10;C08J3/28;C08L79/04;C08L79/08;C09D179/00;C09D179/04;C09D179/08;G03F7/038;H01L31/09;H05K3/28 |
主分类号 |
C08G73/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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