发明名称 Radiation-sensitive compositions and their use.
摘要 Die Erfindung betrifft zur Herstellung von Polyimiden, Polyisoindolochinazolindionen, Polyoxazindionen, Polychinazolindionen oder Polychinazolonen geeignete strahlungsreaktive Gemische aus bestimmten Vorstufen und aromatische Reste enthaltenden Carbonylverbindungen, die im durch UV-Strahlung angeregten Zustand zur Wasserstoffabstraktion befähigt sind, die durch Bestrahlung mit aktinischem Licht eine Löslichkeitsdifferenzierung erfahren. Sie eignen sich zur Herstellung isolierender Schichten und gedruckter Schaltungen.
申请公布号 EP0362649(A2) 申请公布日期 1990.04.11
申请号 EP19890117621 申请日期 1989.09.23
申请人 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 BLUM, RAINER;REHMER, GERD, DR.;SCHUPP, HANS, DR.
分类号 C08G73/06;C08G73/10;C08J3/28;C08L79/04;C08L79/08;C09D179/00;C09D179/04;C09D179/08;G03F7/038;H01L31/09;H05K3/28 主分类号 C08G73/06
代理机构 代理人
主权项
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