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发明名称 VERFAHREN ZUR VORBEHANDLUNG VON SILIZIUMWAFERN
摘要
申请公布号 DD276949(A1) 申请公布日期 1990.03.14
申请号 DD19880321709 申请日期 1988.11.11
申请人 DRESDEN MIKROELEKTRONIK 发明人 FRICKE,PETER,DD;GRAFE,JUERGEN,DD;KOTZERKE,MARTIN,DD;MITZKA,EVELYN,DD;SCHNEIDER,WERNER,DD;RUTHENDORF,GUENTHER VON,DD
分类号 H01L21/58;(IPC1-7):H01L21/58 主分类号 H01L21/58
代理机构 代理人
主权项
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