| 发明名称 |
EVALUATION OF HAZE OF SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0274051(A) |
申请公布日期 |
1990.03.14 |
| 申请号 |
JP19880226902 |
申请日期 |
1988.09.09 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KISHII SADAHIRO;TAKIZAWA RITSUO |
| 分类号 |
G01B21/30;G01B11/30;G01N21/88;G01N21/94;G01N21/956;H01L21/66 |
主分类号 |
G01B21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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