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发明名称 ETCHING METHOD FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH0273632(A) 申请公布日期 1990.03.13
申请号 JP19880225409 申请日期 1988.09.08
申请人 NEC CORP 发明人 SHIMURA AKIO
分类号 C23F1/30;H01L21/306 主分类号 C23F1/30
代理机构 代理人
主权项
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