首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
ELECTROLYTIC SOLUTION FOR DRIVING ELECTROLYTIC CAPACITOR
摘要
申请公布号
JPH0268914(A)
申请公布日期
1990.03.08
申请号
JP19880220793
申请日期
1988.09.02
申请人
NICHICON CORP
发明人
MINAMI SHINICHIRO
分类号
H01G9/035;H01G9/02
主分类号
H01G9/035
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
半导体装置及其制造方法
非同质半导体基材上之宽能隙电晶体及其制造方法;WIDE BAND GAP TRANSISTORS ON NON-NATIVE SEMICONDUCTOR SUBSTRATES AND METHODS OF MANUFACTURE THEREOF
成像元件及成像装置;IMAGING ELEMENT AND IMAGING APPARATUS
固体摄像元件及其驱动方法、以及电子机器
固态摄影元件及其制造方法;SOLID-STATE IMAGE SENSING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
薄膜电晶体阵列及其制造方法
发光装置;LIGHT EMITTING DEVICE
晶粒堆叠设备以及方法;DIE STACKING APPARATUS AND METHOD
晶片封装体及其制造方法;CHIP PACKAGE AND METHOD THEREOF
半导体装置及模组
半导体装置之制造方法及半导体装置;METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
基板处理装置;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
半导体装置的制作方法
由增加有效闸极长度而增进闸极对电晶体通道的控制的技术;TECHNIQUES FOR IMPROVING GATE CONTROL OVER TRANSISTOR CHANNEL BY INCREASING EFFECTIVE GATE LENGTH
使用气体脉动之深度矽蚀刻用方法;METHOD FOR DEEP SILICON ETCHING USING GAS PULSING
基板处理设备及方法;APPARATUS AND METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE
防止铜扩散的介电/金属阻障集成;DIELECTRIC/METAL BARRIER INTEGRATION TO PREVENT COPPER DIFFUSION
电浆处理室中具有能延伸弹性密封件的使用寿命之适当尺寸的边缘环;EDGE RING DIMENSIONED TO EXTEND LIFETIME OF ELASTOMER SEAL IN A PLASMA PROCESSING CHAMBER
分子束增强气体团簇离子束处理;MOLECULAR BEAM ENHANCED GCIB TREATMENT
等离子体处理腔室及其静电夹盘的制造方法