申请人 |
HOECHST AG, 6230 FRANKFURT, DE |
发明人 |
LUKAS, RAINER, DIPL.-CHEM. DR., 4300 ESSEN, DE;MATHIEU, KLAUS;THOENNESSEN, FRANZ, DIPL.-CHEM. DR., 4200 OBERHAUSEN, DE;DAEMBKES, GEORG, DIPL.-CHEM. DR., 4220 DINSLAKEN, DE;BACH, HANSWILHELM, DIPL.-CHEM. DR., 4100 DUISBURG, DE |