发明名称 Positive photosensitive mixture, and photosensitive registration material prepared therefrom.
摘要 Es wird ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das als wesentliche Bestandteile eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung und ein in Wasser unlösliches, in organischen Lösemitteln und in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder quellbares Bindemittel und eine Verbindung enthält der allgemeinen Formel <IMAGE> worin R eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe und R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Alkylgruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen bedeuten. Das Gemisch ist zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien wie Druckplatten oder Photoresists geeignet und zeichnet sich durch größere Flexibilität bei guter Entwicklerresistenz aus.
申请公布号 EP0355581(A2) 申请公布日期 1990.02.28
申请号 EP19890114701 申请日期 1989.08.09
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 RUCKERT, HANS, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 G03F7/004;G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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