发明名称 |
Positive photosensitive mixture, and photosensitive registration material prepared therefrom. |
摘要 |
Es wird ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das als wesentliche Bestandteile eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung und ein in Wasser unlösliches, in organischen Lösemitteln und in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder quellbares Bindemittel und eine Verbindung enthält der allgemeinen Formel <IMAGE> worin R eine gegebenenfalls substituierte Alkylgruppe und R1 und R2 gleich oder verschieden sind und Alkylgruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen bedeuten. Das Gemisch ist zur Herstellung von strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien wie Druckplatten oder Photoresists geeignet und zeichnet sich durch größere Flexibilität bei guter Entwicklerresistenz aus.
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申请公布号 |
EP0355581(A2) |
申请公布日期 |
1990.02.28 |
申请号 |
EP19890114701 |
申请日期 |
1989.08.09 |
申请人 |
HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
RUCKERT, HANS, DR. DIPL.-CHEM. |
分类号 |
G03F7/004;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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