首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
ELECTRON BEAM VAPOR DEPOSITION SOURCE
摘要
申请公布号
JPH0247260(A)
申请公布日期
1990.02.16
申请号
JP19880197945
申请日期
1988.08.10
申请人
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
发明人
INOUE ISAMU;ANDO TOMOAKI;SHINTAKU HIDENOBU
分类号
C23C14/30
主分类号
C23C14/30
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
一种兼容性LED电路
Glicopolisialilación de proteínas diferentes a proteínas de coagulación de la sangre
Prevención o eliminación de la cristalización del ácido bórico presente en una fase acuosa
Proceso para la preparación de esteroides 17-sustituidos
HERRAMIENTA MANUAL PARA TALLADO DE ALIMENTOS
Sistema de retención de cable eléctrico usando un mandril de doble cuña
Dispositivo de pantalla
Procedimiento de adaptación de las regulaciones de un motor sobre el consumo de agente reductor de óxidos de nitrógeno
Método y sistema para verificar una solicitud de acceso
Anticuerpos anti-Abeta y su uso
Radar secundario de vigilancia con una gran tasa de actualización
Process for the production of paper or paperboard, paper or paperboard product obtained and uses thereof
SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING TWO-DIMENSIONAL MATERIAL, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE
WATCH-TYPE MOBILE TERMINAL AND METHOD OF CONTROLLING THEREFOR
INTERLAYER FILM FOR LAMINATED GLASS, AND LAMINATED GLASS
A DEVICE AND METHOD FOR FORMING ULTRASONIC WELDS ON WEB MATERIALS IN CONTINUOUS MOVEMENT
SUBSTANTIALLY DEGRADABLE PERFORATING GUN TECHNIQUE
METHOD AND SYSTEM FOR ADAPTING PERFORMANCE
METHODS FOR ENHANCING THE DELIVERY OF ACTIVE AGENTS
PIEZOELECTRIC BEAM BENDING ACTUATED DEVICE FOR MEASURING RESPIRATORY SYSTEM IMPEDANCE