BANO DE CHAPADO ELECTROLITICO PARA DEPOSICION FUNCIONAL, CON ALTOS RENDIMIENTOS, DE CROMO BRILLANTE Y LISO, Y PROCEDIMIENTO DE CHAPADO ELECTROLITICO QUE EMPLEA DICHO BANO.

摘要

SE DESCRIBE UN BAÑO MEJORADO DE CHAPADO ELECTROLITICO DE CROMO PARA DEPOSICION DE CAPAS DE CROMO FUNCIONAL QUE SON BRILLANTES Y LISAS A DENSIDADES DE CORRIENTE DE 0,155-1,55 A/CM2 Y A ALTOS RENDIMIENTOS.