| 主权项 |
1.一分析物之测量装置,可装配一讯号产生 系统,以在一侦测区产生一可侦测讯号, 该装置包括: 一架子含有一孔,邻接于该架子的一 端,一流动通路以固定两吸水片,前后隔 开以设定一空间,靠近该孔之中央以接受 一滑道机构; 一接受样品之洞,与两吸水片之间的 空间隔开并与之并排; 一位于空间之滑道单位,包括: 一样品接受单位设于(i)当该滑 道单位在第一位置时是在该洞之下,(ii) 当该滑道在第二位置时是在该空间内;及 当该滑道由第一位置移向第二位置时将液 体释出至该孔的工具;以及 在该流动通路内的第一与第二吸水片 ,第一吸水片由该孔延伸至该空间,以将 液体由孔转移至样品接受单位而第二片包 括侦测区,是由该空间延伸至该孔的另一 端。2.如申请专利范围第 1项之装置,其中该装 置更包括设于洞内之过滤工具。3.如申请专利范 围第 1项之装置,更包括当 该样品接受单位由第一位置移向第二位置 时,将多余样品由样品接受单位移开之工 具。4.如申请专利范围第 1项之装置,其中该样 品接受单位包括该讯号产生系统之一部份 ,一与该分匠物反应之酵素。5.如申请专利范围第 4项之装置,其中该酵 素为一气化 。6.如申请专利范围第 1项之装置,其 中第二 吸水片包括在流动方向的第一区,含有第 一试剂,会与该讯号产生系统的一组件反 应而设定一开端値,及第二区,它含有第 二试剂,会产生可侦测之讯号。7.一分析物测量装 置,配合一讯号产生系统 ,以产生一可侦测之讯号作为侦测界限, 该装置包括: 一架子含有一孔,邻接于该架子的一 端,一流动通路以固定两吸水片,前后隔 开以设定一空间,靠近该孔之中央以接受 一滑道机构; 一接受样品之洞,与两吸水片之间的 空间隔开并与之并排; 一位于该空间之滑道单位,包括: 一样品接受单位设于(i)当该滑 道单位在第一位置时是在该洞之下,(ii) 当该滑道在第二位置时是在该空间内;该 样品接受单位包括该讯号产生系统不扩散 界限之组件;及当该滑道由第一位置移向 第二位置时打开一小袋之工具; 当该样品接受单位由第一位置移向第 二位置时,将多余样品由样品接受单位移 开之工具;及 在该流动通路内的第一与第二吸水片 ,第一吸水片由该孔延伸至该空间,以将 液体由孔转移至样品接受单位而第二片由 该空间延伸至该孔之另一端,其包括一测 量区,其中之讯号产生系统之一组件为不 扩散界限。8.如申请专利范围第 7项之装置,其 中该移开多余样品工具系突出于该滑道之 上,当样品接受工具由第一位置移向第二 位置时会与之接触。9.如申请专利范围第 8项之装 置,其中该样 品接受工具包括该讯号产生工具不扩散界 限之第一组件,而第二吸水片包括该讯号 产生工具不扩散界限之第二组件。10.如申请专利 范围第 9项之装置,其中该 第一组件为一氧化 而第二组件为一过氧 化 。11.如申请专利范围第10项之装置,其中该 氧化 为胆固醇氧化 ,而过氧化 为辣 根过氧化 。12.如申请专利范围第10项之装置,其中 该 氧化 为蔗糖氧化 ,而该过氧化 为辣 根过氧化 。13.如申请专利范围第10项之装置,其中 该 氧化 为醇氧化 ,而该过氧化 为辣根 过氧化 。14.如申请专利范围第 7项之装置,其中第 二吸水片包括在流动方向的第一区,含有 第一试剂,会与该讯号产生系统的一组件 反应而设定一开端値,及第二区,它含有 第二试剂,会产生可侦测之讯号。15.如申请专利范 围第14项之装置,更包括 第二孔设于第一孔之另一端,由该孔至流 动通路之测量区部份至少有一导管以将液 体充满该测量区;及将该液体由该孔释出 至该流动通路之工具。16.如申请专利范围第 7项 之装置,更包括 第二孔设于第一孔之另一端,由该孔至流 动通路之测量区部份至少有一导管以将液 充满该测量区;及将该液体由该孔释出至 该流动通路之工具。17.如申请专利范围第16项之 装置,其中该 孔配有一小袋设有该液体;而该液体释出 工具包括设第二孔上方空间之滑道,并有 一臂以撕破该小袋。18.如申请专利范围第 7项之 装置,建于底 盘上并与覆盖盘焊接在一起而作为滑道的 空间,该底盘包括流动通路而该覆盖盘包 括第一孔与洞。19.一侦测样品内分析物存在之方 法,采用 一讯号产生系统,具有许多试剂分于表面 之不扩散界限内或于溶液之中,该讯号产 生系统与该分析物于该表面配有之测量片 侦测区中产生一可侦测讯号,该方法包括 : 将样品放入可由第一位置移往第二位 置的样品接受单位;该第二位置与该测量 片有液体转移关系; 将样品接受单位移往第二位置; 将液体转移至该样品接受单位,以至 少将该讯号产生系统之一组件由该样品接 受单立转移至该测量片;及 使该液体吸经该测量片,并于该样品 接受单位之相当距离处形成与该样品内分 析物量有关的可侦测界限。图示简单说明: 图 1为根据本发明装置之底盘与滑道 之平面图; 图2a为盖在底盘上之中间盘的平面图 ; 图2b为同一覆盖盘之反面平面图,以 显示底面; 图 3为一组合装置之平面图; 图 4为该装置之选择性设计; 图4a为底盘与滑道之平面图; 图4b为覆盖盘之平面图。 |
