发明名称 影像管萤光幕之消光反辐射弯曲罩镜
摘要
申请公布号 TW051893 申请公布日期 1983.07.16
申请号 TW07127114 申请日期 1982.12.11
申请人 林启雄 发明人 林启雄
分类号 H01J29/00 主分类号 H01J29/00
代理机构 代理人 龙云翔 台北巿长安东路一段二十三号十楼十之一室
主权项 1.一种平行可置或套于显像管萤光幕前以消除可视光线以外之刺眼光线的罩镜,系以矩形同大小具微弯状之透明玻璃,或茶色或黑晶体色板玻璃中之相同台不相同色旳两片为一组夹紫外线吸收处理之透明或荼色或中灰色接着剂胶 成介膜,其镜表面再经双面或单面消光处理,反射率接近于零为构造之具吸收紫外线及无阴影停留现象之胶合玻璃总成者。2.依请求专利部份第1.项中之罩镜,两片为一组之玻璃片,系可选自透明与透明,透明与荼色或黑晶体,茶色与茶色或黑晶体色板玻璃总成者。3.依请求专利部份第1.项及第2.项中之罩镜,两片玻璃均为透明时,中间紫外线吸收处理粘胶膜为荼色或中灰色,其中一片为荼色或黑晶体色板玻璃时,中间紫外线吸收处理粘胶膜就为透明者。4.依请求专利第1.、第2.及第3.项中之罩镜,其矩形同大小具微弯状之透明玻璃,或茶色或黑晶体色板玻璃片,其厚度在2m/m-3m/m之间,紫外线吸收处理粘胶膜之厚度在0.38 m/m左右,而消光处理之镜面层厚为大于3,小于6以下者。5.依请求专利部份第1.至第4.项中之罩镜,其紫外线吸收剂,乃选自吸收范围自300-400nm波长,353nm吸收性最大之羟基笨基苯骈三氮唑(hydroxypheny1 benzotriazole )或二羟基二茶甲酮(dihydroxybenzo-phenone)者。6.依请求专利部份第1.至第5.项中之罩镜,其紫外线吸收膜得事先喷涂或侵渍在任何之一玻璃片,其厚度在2500A左右,再藉塑胶接着剂或聚乙烯丁醛胶 者。
地址 高雄巿达仁街五十五号