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发明名称 PARTICLE SOURCE FOR A REACTIVE ION BEAM ETCHING OR PLASMA DEPOSITION DEVICE
摘要
申请公布号 EP0326824(A3) 申请公布日期 1990.01.31
申请号 EP19890100449 申请日期 1989.01.12
申请人 LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 KATZSCHNER, WERNER, DIPL.-ING.;EICHHOLZ, STEFAN, DIPL.-ING.;GEISLER, MICHAEL, DR. DIPL.-ING.;JUNG, MICHAEL
分类号 H05H1/18;C23F4/00;H01J37/08;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01J37/08 主分类号 H05H1/18
代理机构 代理人
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