发明名称 GAS SUPPLY PIPELINE SYSTEM FOR PROCESS EQUIPMENT
摘要 <p>Système destiné à transporter au moins deux types de gaz, et pourvu d'au moins deux vannes (135, 136, 139, 140) installées dans chacun des passages indépendants d'écoulement formés entre les pipelines d'alimentation en gaz de traitement et un pipeline d'alimentation en gaz de purge, et d'au moins deux vannes (137, 138, 141, 142) installées dans chacun des passages d'écoulement formés entre les pipelines d'alimentation en gaz de traitement et les pipelines dans l'installation de traitement. Chacun des pipelines d'alimentation en gaz de traitement et chacun des pipelines de l'installation de traitement peut être purgé et vidé par au moins deux vannes dans chacun desdits passages d'écoulement qui sont ouverts ou fermés indépendamment, et on peut empêcher la stagnation d'ungaz dans les pipelines inutilisés par l'introduction constante d'un gaz de purge dans lesdits pipelines.</p>
申请公布号 WO1990000633(P1) 申请公布日期 1990.01.25
申请号 JP1989000690 申请日期 1989.07.07
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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