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发明名称 WET TREATMENT APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH027514(A) 申请公布日期 1990.01.11
申请号 JP19880158300 申请日期 1988.06.27
申请人 NEC KYUSHU LTD 发明人 MIURA YASUHIRO
分类号 H01L21/30;H01L21/027 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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