| 发明名称 |
Method for decontamination of a chamber used in vacuum processes for deposition, etching and/or growth of high purity films |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US4892615(A) |
申请公布日期 |
1990.01.09 |
| 申请号 |
US19870127952 |
申请日期 |
1987.12.02 |
| 申请人 |
SGS MICROELETTRONICA S.P.A. |
发明人 |
MOTTA, ANTONINO |
| 分类号 |
C23C16/44;C30B23/02;C30B25/08 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
