发明名称 Light-sensitive composition and light-sensitive registration material prepared therefrom.
摘要 Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und ein hieraus mit einem Schichtträger hergestelltes Aufzeichnungsmaterial. Das Gemisch enthält als wesentliche Bestandteile ein 1,2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1) einer unter Einwirkung von aktinischer Strahlung starke Säure bildenden Verbindung und 2) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C-Bindung und ein Bindemittel mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I <IMAGE> worin R1 ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid- oder eine Alkylgruppe, R2, R3, R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff-, Alkyl- oder Arylgruppen, R5, R6 und ggf. R7 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffoder Halogenatome, Alkyl-, Aryl- oder Alkoxygruppen, X die zur Vervollständigung eines ein- oder mehrkernigen carbocyclischen aromatischen Ringsystems erforderlichen Atome bedeuten und n 1, 2 oder 3 ist. Das erfindungsgemäße Gemisch ergibt Flachdruckplatten mit hoher Druckauflage, die man thermisch nachhärten kann und gute Chemikalienbeständigkeit besitzen. Es können auch Photoresists mit hoher Wärmestandfestigkeit hergestellt werden.
申请公布号 EP0347660(A2) 申请公布日期 1989.12.27
申请号 EP19890110425 申请日期 1989.06.09
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 ELSASSER, ANDREAS, DR. DIPL.-CHEM.;FRASS, HANS WERNER, DR. DIPL.-CHEM.;MOHR, DIETER, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 G03F7/022;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/032;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/30 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
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