| 主权项 |
1﹒具有下列各种化合物及其盐类:式中,X 为氧或硫;R为卤素,C1至C^2烷基 ,或硝基;R^1为氢或C1至C2烷基 ;R^2为氢或C1至C4烷基;R^3为 氢;R^4为氢或C1至C4烷基;或者 R^3与R^4共同形成一单键;或者R^ 1与R^3合并为具有2个碳原子之次烷 基;或者R^2与R^4合并为具有2至5 个碳原子之次烷基;而R^5为氢或硝基 而R6为(1)氢,(2)卤素,(3) 1硝基或(4)RbSOn─,其中n为 整数O、1或2而R^b为C1至C2烷 基。 2﹒如申请专利范围第1项之各化合物,其中 X为氧;R为氯、溴、C1至C2烷基、 或硝基;R^1为氢或甲基;R2为氢或 甲基;R3为氢或甲基;R4为氢或甲基 ;R5为氢或硝基而R6为(1)氢,( 2)卤素,(3)硝基,或(4)R^b SOn─,其中n为整数0.1或2而R ^b为C1至C2烷基。 3﹒如申请专利范围第2项之各化合物,其中 R^5为氢或硝基而R6为氢;氯;氟; 溴;硝基;R^bSOn─,其中n为整 数2而Rb为甲基或乙基;且R^5在第 3位置而R6在第4位置。 4﹒如申请专利范围第2项之各化合物,其中 R^5为氢而R6为氢;氯;溴;氟;或 RbSO2,其中Rb为C1至C2烷基 。 5﹒控制不合宜植物之方法,包括将一除草有 效量之如申请专利范围第1.第2.第3 或第4等项之化合物或盐施用于欲加控制 之区域。 6﹒一种除草组合物,包含一具除草活性之3 ─(苯甲醯基)─4─氧基戊内酯或3─ (苯甲醯基)─4─氧基戊硫内酯或其盐 类及其所需惰性戊体。 7﹒如申请专利范围第6项之除草组合物,其 中该3─(苯甲醯基)─4─氧基戊内酯 或3─(苯甲醯基)─4─氧基戊硫内酯 为如申请专利范围第1.第2.第3或第 4项中所述之化合物。 8﹒控制不合宜植物之方法,包含将一含有一 具除草活性之3─(苯甲醯基)─4─氧 基戊内酯或3─(苯甲醯基)─4─氧基 戊硫内酯或其盐类及其所需惰性载体等之 除草组合物施用于欲加控制之区域。 9﹒制备下式除草化合物及其盐类之方法:式 中X为氧或硫;R为卤素,C1至C2烷 基,或硝基;R1为氢或C1至C2烷基 ;R2为氢或C1至C4烷基;R3为氢 ;R4为氢或C1至C4烷基;R3与R 4共同形成一单键;或者R1与R3合并 为具有2个碳原子之次烷基;或者R2与 R4合并为具有2至5个碳原子之次烷基 ;而R5为氢或硝基而R6为1)氢,( 2)卤素,(3)硝基或(4)RbSO n─,其中n为整数0.1或2而Rb为 C1至C2烷基;包含:(1)使一摩尔 量之下式二酮:式中R1至R4均如本项 前面定义者与一摩尔量之下式取代苯甲醯 基反应物式中R5及R6均如本项前面定 义而Y为卤素、C1至C4烷基─G(O )─O─C1至C4烷氧基─G(O)─ O─,或式中该分子之R、R5.R6等 部份与该反应物相同之取代苯甲醯基反应 物,以及一摩尔量或更多之中度硷等相反 应以形成下式之烯醇酯:式中X及R至R 6均如本项前面定义;(2)使一摩尔之该烯醇酯中间 产物与1至4摩 尔之中度硷,以及0﹒01摩尔至0﹒5 度尔或更多之氰化物源以形成该除草化合 物L0,如申请专利范围第9项之制法, 其中Y为卤素,中度硷为三─C1至C6 烷基胺、啶、硷金属碳酸盐或硷金属磷 酸盐,而氰化物源为硷金属氰化物、甲基 C1至C44烷基酮之偕醇、苯甲醛或 C2至C5脂肪族醛类之偕醇、偕醇 类、氰化锌、三(低级烷基)甲矽烷基氰 化物或氰化氢。 11﹒如申请专利范围第10项之制法,其中Y 为氯,中度硷为三─C1至C6烷基胺、 啶、碳酸钠或磷酸钠,而氰化物源为氰 化钾、丙酮偕醇、或氰化氢。 |
