| 发明名称 | 用余辉等离子体清洗表面的方法 | ||
| 摘要 | 本发明是将待清洗的物品(10)在一种余辉低温等离子体作用下清洗。其方法是将该物品放在由微波放电等产生低温等离子体装置的膨胀室(7)中。生成等离子体的气体最好是含有小比例量的氟化或氯化化合物(特别是三氟化氮)的氮气和氧气的混合物。本发明适用于清洗不锈钢，陶瓷，瓷料或玻璃制品，其方法是将其污染物如润滑油及油脂加以分解而达到清洗。本发明特别适用于核工业中的工具清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN1038036A | 申请公布日期 | 1989.12.20 |
| 申请号 | CN89103142.1 | 申请日期 | 1989.05.10 |
| 申请人 | 公共供应公司 | 发明人 | 地萨斯·欧得莱;穆泰尔·伯革特;苏瑞明斯基·丹尼尔 |
| 分类号 | B08B7/00;H05H1/24;C23F4/00;G21F9/28 | 主分类号 | B08B7/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 戴真秀 |
| 主权项 | 1.一种清洗物品表面的方法，其特征是所说物品(10)是用 不锈钢，玻璃，瓷料或陶瓷所制成的单质物品或混合质的物品，该 方法包括令物品(10)在一种余辉低温等离子体的作用下以足够的 作用时间分解在其表面上的沉积污染物。 | ||
| 地址 | 法国莫丽日 | ||