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Die Erfindung betrifft strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesättigte Verbindungen und ein Verfahren zu deren Herstellung. Die ethylenisch ungesättigten organischen Verbindungen entsprechen der allgemeinen Formel R- ?-R¹ worin R für einen Alkylrest, für einen Arylrest oder den Rest R1 steht und R¹ für den Rest <IMAGE> steht, wobei die Reste R² bis R<6> für H, Alkyl, OH, OAlkyl, SH, SAlkyl, Halogen, N(Alkyl)2, N(Alkyl)(Aryl) stehen und mindestens einer aber maximal drei der Reste R² bis R<6> für den Rest -O- ?-NH-X-O- ?-?=CH2 stehen, worin X für einen Alkylenrest oder einen Oxaalkylenrest mit jeweils 2 bis 10 C-Atomen und Y für H oder CH3-stehen.
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